테스는 반도체 장비에 적용되는 샤워헤드 기술에 대한 특허를 취득했다고 밝혔다. 테스가 획득한 특허는 샤워헤드 내부의 온도를 파우더가 형성되지 않는 온도 이상으로 가열할 수 있도록 한 기술이다. 이를 통해 샤워헤드 내부에서 파우더가 발생하지 않게 돼 품질을 높일 수 있게 한다.
테스는 상기 특허와 관련된 기술을 반도체 장비에 적용하고 R&D활동에도 응용하여 제품경쟁력 강화에 활용할 계획이다.
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