ACM 리서치가 건식 공정 애플리케이션을 위한 장비 ‘Ultra Furnace(울트라 퍼니스)’를 공개했다. Ultra Furnace는 LPCVD(low-pressure chemical vapor deposition)에 높은 성능을 제공하도록 최적화되었으며, 동일한 플랫폼을 이용해 산화공정(oxidation), 어닐링(annealing, 열처리 공정)을 비롯해 ALD 공정에도 적용된다.
설명에 따르면 박막 증착 공정은 높은 온도에서 공정 가스들이 서로 반응하여 실리콘 웨이퍼 표면에 얇은 산화막 또는 질화막층을 형성하는 공정인데, Ultra Furnace 시스템은 최대 100장의 12인치(300mm) 웨이퍼 배치 공정이 가능하도록 설계되었다.
그리고 이 시스템은 내구성을 향상시키는 하드웨어와 검증된 소프트웨어 기술과 독점적인 제어 시스템 및 알고리즘이 결합, 이를 통해 신제품 장비는 압력, 가스 유량 및 온도를 안정적으로 제어할 수 있다.
Ultra Furnace 시스템은 기본적으로 LPCVD 공정을 목표로 개발되었지만, 몇 가지 구성 요소와 레이아웃만 변경하면 다른 애플리케이션에도 적용된다. 하드웨어 구성의 약 85%가 그대로 유지되기 때문에 새로운 애플리케이션 적용을 위해 프로그램을 효율적으로 변경할 수 있다.
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